佳業 國產-氨分解爐

佳業 國產-氨分解爐的原理

在一定條件下(xia)將氨進行分解可以獲得75％H2、25％N2的(de)氫氮混合氣體：

用此(ci)法(fa)制得的氣體(ti)是一種良好的還原性保護氣體(ti)，可(ke)以廣(guang)泛地(di)應用于半導體(ti)工(gong)業、冶金(jin)工(gong)業、機械(xie)工(gong)業以及其(qi)它需要保護氣氛的生(sheng)產(chan)和科研部門中。

鐵粉還原用氨(an)分爐(lu)解制氫設備利用液氨(an)來制取保護氣體，在工業上較容易實現(xian)，這(zhe)是因(yin)為：

1. 氨容易(yi)分解(jie)：氨在催化劑的作用(yong)下，常壓加(jia)熱至(zhi)300℃以上即能分解(jie)，并且隨著溫度的升高(gao)，分解(jie)速度加(jia)快(kuai)，分解(jie)也就越*。

2. 氣體(ti)(ti)精(jing)制容易(yi)：作為原(yuan)料的(de)(de)液(ye)氨純度是很高的(de)(de)，其中(zhong)揮發(fa)性雜質只有少量(liang)的(de)(de)惰性氣體(ti)(ti)和水(shui)份，特(te)別是含氧量(liang)極少。因此，氨分解(jie)后(hou)的(de)(de)混合氣體(ti)(ti)只需(xu)通過(guo)簡單的(de)(de)凈化就可獲得純度很高的(de)(de)保護氣體(ti)(ti)。

3. 原料液氨容易(yi)得到，價格(ge)低廉，原料消耗比較少（每公斤液氨可(ke)產生2.6N m3混合氣(qi)體）。

二、鐵粉還原用氨(an)分解爐制氫設備

氨(an)(an)氣源來自液氨(an)(an)鋼瓶或(huo)液氨(an)(an)貯(zhu)罐，鑒(jian)于分解后產(chan)氣純度的要求和防止催化劑中毒的要求，要使用優(you)等品或(huo)優(you)等品以上的氨(an)(an)。

注意：用(yong)戶一定要(yao)在液氨鋼(gang)瓶上安裝鋼(gang)瓶減壓閥，否則設備將很難控(kong)制(zhi)能(neng)使用(yong)。

當(dang)氨(an)氣(qi)(qi)量較大或環境溫(wen)(wen)(wen)(wen)(wen)(wen)度(du)較低(di)(di)時，液氨(an)需經(jing)氣(qi)(qi)化器(qi)氣(qi)(qi)化。氨(an)氣(qi)(qi)經(jing)鋼(gang)瓶減(jian)壓(ya)閥減(jian)壓(ya)后，壓(ya)力降(jiang)(jiang)至(zhi)0.05MPa（表壓(ya)）左右，然后經(jing)套管式換熱器(qi)予熱后進(jin)入分(fen)(fen)(fen)解(jie)爐(lu)(lu)。分(fen)(fen)(fen)解(jie)爐(lu)(lu)是由(you)爐(lu)(lu)膽、電(dian)熱元(yuan)件(jian)和(he)保(bao)溫(wen)(wen)(wen)(wen)(wen)(wen)材料組(zu)成，AQ50A氨(an)分(fen)(fen)(fen)解(jie)爐(lu)(lu)有二組(zu)爐(lu)(lu)膽，內裝氨(an)分(fen)(fen)(fen)解(jie)觸媒，爐(lu)(lu)膛二周是電(dian)熱絲，通(tong)電(dian)后使爐(lu)(lu)溫(wen)(wen)(wen)(wen)(wen)(wen)均(jun)勻上升。分(fen)(fen)(fen)解(jie)爐(lu)(lu)溫(wen)(wen)(wen)(wen)(wen)(wen)度(du)控(kong)制在(zai)800～850℃之間，氨(an)氣(qi)(qi)在(zai)高(gao)溫(wen)(wen)(wen)(wen)(wen)(wen)下分(fen)(fen)(fen)解(jie)，分(fen)(fen)(fen)解(jie)后的(de)(de)高(gao)溫(wen)(wen)(wen)(wen)(wen)(wen)混合氣(qi)(qi)體通(tong)過套管換熱器(qi)與低(di)(di)溫(wen)(wen)(wen)(wen)(wen)(wen)的(de)(de)氨(an)氣(qi)(qi)進(jin)行熱交(jiao)換，再經(jing)過列管式水冷卻器(qi)后溫(wen)(wen)(wen)(wen)(wen)(wen)度(du)降(jiang)(jiang)至(zhi)接近常溫(wen)(wen)(wen)(wen)(wen)(wen)，便可(ke)供用(yong)戶使用(yong)。如用(yong)戶對混合氣(qi)(qi)的(de)(de)純(chun)度(du)和(he)露點要(yao)求(qiu)較高(gao)，則可(ke)在(zai)氨(an)分(fen)(fen)(fen)解(jie)裝置后配純(chun)化裝置。